【技術文章】薄膜晶核的形成與生長的物理過程 2014-03-26

在基底表面上吸附的氣相原子凝結之后，吸附原子在其表面上擴散遷移而形成晶核。晶核再結合其他吸附氣體原子逐漸長大，*便形成了薄膜。因此薄膜的形成是由成核開始的，由核生長而形成薄膜。 晶核形成與生長的物理過程可用圖5一3來表示。從圖中可以看出核的形成...

【技術文章】薄膜表面擴散過程 2014-03-22

入射到基底表面上的氣相原子在表面上形成吸附原子后，它便失去了沿表面法線方向的動能，只具有與表面水平方向相平行運動的動能。依靠這種動能，吸附原子可以在表面上作不同方向的表面擴散運動。在表面擴散過程中，單個吸附原子間相互碰撞形成原子對之后才能產生凝結。因此凝結就...

【技術文章】薄膜的凝結吸附過程 2014-03-19

凝結過程是指從蒸發源中或濺射靶上被蒸發或濺射出來的原子、離子或分子人射到基底表面之后，從氣相到吸附相，再到凝結相的一個相變過程，它是薄膜形成的*個階段。 固體表面與固體內部在晶體結構上的重大差異就是原子或分子間的化學鍵中斷。原子或分子在固體表面形成...

【技術文章】薄膜的形成與生長 2014-03-15

薄膜的形成與生長過程大體可分為外來原子在基底(或稱為基片、基板或襯底)上的凝結、擴散、成核、晶核生長、原子或粒子團的接合及連接成膜等階段。薄膜的形成與生長過程不僅與薄膜材料和基底材料有關，還受原子和離子的狀態及能量、沉積速率、基底溫度、雜質等多種因素的影響。...

【技術文章】薄膜制備環境-超凈工作間標準與級別 2014-03-10

在潔凈的環境下制備薄膜，是保證薄膜質量的關鍵技術之一。凈化間的定義最初是由美國開發的聯邦標準209版(Federal Standard 209)。后來發展為以單位體積中存在一定直徑以上的顆粒數為基礎的凈化間級別的定義。凈化間級別的米制版如表4一18所列。圖4...

【技術文章】薄膜制備的環境-塵埃與針孔 2014-03-05

【技術文章】薄膜圖形加工的主要方法 2014-02-28

在基板表面上形成所要求的薄膜圖形的方法大致有以下三種: (1)用絲網印制術印制或者用感光樹脂(光刻膠)在基板表面上形成負圖像，然后采用真空蒸鍍、濺射、CVD等方法進行全表面鍍膜，接著把基板浸泡在溶解負像物質的溶劑中，這樣在把形成負像物質泡脹溶解的同時，...

【技術文章】什么是薄膜-陶瓷基片 2014-02-25

氧化鋁和鎂橄欖石等絕緣性陶瓷，即使在高溫條件下對高頻電力也具有優異的絕緣電阻、耐壓和介電損耗等性能。陶瓷絕緣材料的主要用途見表4一5，其性能見表4一6。 陶瓷性能受到下面許多因素影響:主要成分的晶體類型，非主要成分組成，雜質，玻璃質中間物，氣孔數最和分...

【技術文章】玻璃基片的性質 2014-02-20

玻璃是一種透明的具有平滑表面的穩定性材料，可以在小于5000溫度下使用。玻璃的熱性質和化學性質隨其成分不同而有明顯變化。如透明石英玻璃，其雜質總含量小于l00ppm，在0. 18拜 m-45m一波長范圍內，其為透明狀態，在20＇C~ 1000C溫度范圍內，...

【技術文章】薄膜制備中基片的選擇 2014-02-12

在薄膜的制備過程中，除了薄膜沉積技術外，為了獲得性能良好的薄膜及薄膜器件，還有不少特殊的技術需要掌握并熟練運用。 由于薄膜的厚度很小，一般都不能支持本體，而必須為它提供一個載體。理想的載體或“基片”除了要有足夠的附著力以支持薄膜外，還不應與薄膜相互作用...